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Transistor : la barrière du nanomètre se rapproche

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Transistor : la barrière du nanomètre se rapproche

Vendredi, 28/06/2002 - 22:00 0 commentaire
Transistor : la barrière du nanomètre se rapproche zoom

La semaine dernière, à l'occasion du salon informatique de Taipeh, le fondeur taiwanais TSMC annonçait avoir réussi à fabriquer un processeur doté de transistors de 9 nanomètres (nm) ou 0,09 micron d'épaisseur. Rappelons que le Pentium 4 est actuellement gravé en 130 nm et qu'Intel compte lancer la fabrication de ses puces en 90 nm l'année prochaine et en 65 nm en 2005. TSMC promet donc une gravure d'une taille dix fois inférieure à ce qui existe actuellement. Pour le fondeur, cette finesse de gravure ouvre la voie à des processeurs de la taille d'un ongle et dotés de la puissance d'un super-calculateur. Du côté américain, des chercheurs de l'université de Princeton (New Jersey), dirigés par Stephen Chou, viennent d'annoncer avoir mis au point une méthode de gravure plus rapide et plus efficace, en termes de miniaturisation, que la lithographie par ultraviolets employée aujourd'hui. Le processus mis au point permet d'"imprimer" directement sur le silicium le modèle des transistors architecturés en registres. Cette méthode permet de graver à la taille, là aussi record, de 10 nm. Mieux, elle grave en un quart de millionième de seconde un modèle qui nécessite entre 10 et 20 minutes en lithographie traditionnelle. L'équipe de Princeton a réussi un véritable tour de force : éliminer les étapes impliquées dans la gravure en projetant un moule contre une pièce en silicium grâce à une pulsation laser d'une extrême brièveté, à savoir 20 femtosecondes. La durée de fabrication d'un microprocesseur qui est actuellement de 10 à 20 secondes serait ainsi réduite à un quart de milliardième de seconde, tout en augmentant d'une centaine de fois la densité de l'implantation des transistors. Intitulée Laser-Assisted Direct Imprint (LADI), cette technologie permettra de fabriquer des processeurs ultra puissants tout en optimisant les coûts de production. Ces récentes avancées techniques montrent que la loi de Moore a encore de beaux jours devant elle et risque de fêter allègrement son 40 e anniversaire en 2005.

Université de Princeton :

http://www.princeton.edu/pr/news/02/q2/0619-ladi.htm

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