Gravure en 90 nanomètres : Toshiba devance Intel
Vendredi, 17/01/2003 - 23:00
Toshiba aborde le procédé de gravure en 90 nanomètres (0,09 micron) et devrait entrer en production de masse dès le deuxième trimestre. Le groupe nippon devance ainsi de quelques mois Intel (qui abordera le 90 nm en milieu d'année) mais aussi AMD, IBM et TSMC. Baptisé "TC300", le procédé de ...
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