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Micro-électronique : la course au 0,1 micron est lancée
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Les géants de l'électronique japonaise viennent de s'associer dans un bel ensemble pour développer de concert la nouvelle génération de technologies de gravure à 0,1µm. Emmenés par NEC, ils sont tous là ou presque : Fujitsu, Hitachi, Matsushita, Mitsubishi, Oki, Rohm, Sanyo, Sharp et Sony. Le message est clair : après avoir longtemps dominé la gravure micro-électronique puis s'être fait dépasser par l'effort colossal des États-Unis au début des années 1990, le Japon compte bien reconquérir la position dominante. L'objectif, à l'horizon 2003, est en particulier de développer des modules mémoire de 4 gigabits avec la nouvelle technologie. Les onze partenaires partageront l'intégralité des recherches mais auront toute latitude pour l'appliquer commercialement comme ils l'entendent. L'accord indique également que le 0,1 micron, taquiné en laboratoire par tous les grands du secteur depuis quelques années, est prêt à démarrer, au moins en pré-développement. On en a du reste la preuve par l'augmentation des effets d'annonce autour de la technologie. Comme le britannique Trikon Technologies qui a profité du salon Semicon Taiwan pour montrer qu'il venait de réussir à appliquer une gravure à 0,1 micron à un process aluminium à basse constance diélectrique. Ou l'annonce par Taiwan Semiconductor Manufacturing qu'il avait déjà aligné sept clients pour ses puces en technologie cuivre à 0,13 micron.
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