Intel s'apprête à tester une nouvelle technologie de gravure de processeur, basée sur l'utilisation de rayons lumineux ultraviolets dits "extrêmes". Il vient pour cela de commander une première machine de test, mise au point début avril par le consortium Extreme UltravioletLLC, dont il est le principal membre aux côtés d'AMD, IBM ou Infineon. L'objectif est de dépasser la loi énoncée par Gordon Moore en 1965 et qui veut que le nombre de transistors intégrés sur une puce double tous les 18 à 24mois. La technique que va employer Intel est baptisée lithographie par ultraviolets extrêmes ou EUV (Extreme Ultraviolet Lithography). La lithographie est traditionnellement utilisée pour imprimer le tracé des circuits sur les galettes de silicium, base de tout processeur. Les fondeurs utilisent pour cela un "masque", une sorte de pochoir, qui laisse passer la lumière à certains endroits, imprimant alors les circuits sur la surface photosensible de la galette. L'objectif est de dessiner les circuits imprimés les plus petits possibles. La technique d'EUV innove en utilisant, non plus des rayons ultraviolets classiques, mais ceux situés à l'extrémité du spectre lumineux. Ces rayons ont les longueurs d'ondes les plus courtes et donc les plus précises. Cette technologie permet d'atteindre théoriquement des finesses de gravure de 0,05micron, contre 0,13 actuellement. Le fondeur souhaite, par cette technologie, multiplier par dix le nombre de transistors présents sur ses puces et ainsi atteindre des vitesses d'horloge de de 10 GHz à l'horizon 2005 et de 30GHz en 2010. À titre de comparaison, les derniers microprocesseurs Pentium4 atteignent aujourd'hui 2,4GHz.
Intel : http://www.intel.com/pressroom/archive/speeches/gelsinger20020409.htm
