Intel Corp., premier fabricant mondial de semiconducteurs, vient d'annoncer à Kyoto ( Japon) qu'il était parvenu à réaliser le transistor le plus petit et le plus puissant jamais conçu. Les ingénieurs du centre de recherche de Hillsboro, dans l'Oregon, ont en effet réussi à fabriquer des transistors d'une taille de 20 nanomètres, ou 0,02 micron, contre 0,18 micron pour les plus petits modèles aujourd'hui en circulation. Ces transistors mesurent moins de 80 atomes de large pour 3 atomes d' épaisseur. Ils sont capables de fonctionner à une fréquence 1.5 GHz. Bien que ce nouveau transistor ne soit pas le plus petit des des transistors expérimentaux existant, il a été salués par l'industrie comme une étape decisive car sa fabrication repose sur les technologies conventionnelles employées dans la fabrication des microprocesseurs et des puces. Les transistors constituent l'élément de base des microprocesseurs et une telle avancée permettra de produire d'ici 2007 des processeurs contenant près d'un milliard de transistors avec une cadence de 20 gigahertz, alors que l'actuel Pentium 4 d'Intel contient 42 millions de transistors pour une cadence de 1,7 gigahertz. Cette nouvelle technologie va aussi permettre le réalisation de puces-mémoire de 4 Gigabits, de quoi stocker 333 fois un roman comme "de Moby Dick." Autre avancée, ces nouvelles puces consommeront moins d'un volt d'électricité, c'est à dire à peine la moitié de la consommation des microprocesseurs actuels. A cet égard, les scientifiques d'Intel soulignent que la consommation électrique de chaque nouvelle génération de puces se réduit plus rapidement que la puissance des ordinateurs n'augmente. Selon les spécialistes cette nouvelle avancée devrait permettre à la fameuse Loi de Moore, édictée en 1965, de rester valide jusqu'en 2014. Cette loi que Gordon More a ui même modifié en 1993 prévoit que le nombre de transistors qui peuvent être gravés sur une seule puce de silicium double en moyenne tous les 18 mois. Un des défis principaux dans la production de transistors aussi petits est constitué par les longueurs d'ondes de lumière utilisées par les machines qui gravent ces composants sur des tranches de silicium. Dans la lithographie conventionnelle, un masque est employé avec des secteurs transparents et des secteurs opaques, comme dans un négatif photographique . Cependant, la lumière, en passant dans les zones transparentes s'infléchit légèrement, et dessine une image légèrement floue. Comme ces circuits ont une taille inférieure aux longueurs d' onde utilisées, cela devient un problème crucial. Cependant, les ingénieurs d'Intel ont réussi à surmonter cette difficulté grâce à la technique du " changement de phase," qui permet, en utilisant la lithographie dans l'ultraviolet extrême, de dessiner des circuits avec une finesse et une précision inégalées. Le Docteur Marcyk, responsable des recherches chez Intel, précise que chaque fois qu'il a présenté ses résultats à Andrew Grove, Président et co-fondateur d'Intel, celui-ci lui demande avec insistance :" quelle est la limite de taille que ne nous pourrons pas dépasser". A chaque fois la réponse du Docteur Marcyk est invariablement la même: "Andy, je ne connais pas encore la limite."
brève @RTFlash
Brève rédigée par @RT Flash
NYT :
http://www.nytimes.com/2001/06/10/technology/10CHIP.html?searchpv=nytToday
