Intel, AMD, Motorola, Infineon, Micron et IBM viennent de présenter, dans le cadre d'un accord technologique, le prototype d'un machine de photolithographie utilisant des rayons Ultra Violets. Le projet, d'un montant d'environ 250 millions de dollars, a été conduit par le Department of Energy labs de Sandia et les laboratoires de Lawrence (Berkeley et Livermore). Le but poursuivi est de pouvoir graver des circuits d'une finesse de 0,1 microns à 0,03 microns, capables de franchir des fréquences de transition proche des 10 GHz. L'utilisation industrielle du procédé devrait pouvoir être appliqué dès 2005, et la pré-production est espérée avant 2003. Reste que, passé 2007, il faudra repenser totalement les mécanismes de conception des circuits intégrés. La filière photo-lithographique et ses évolutions vers l'UV extrême est tracée et définie depuis plus de 30 ans... Cela fait donc 30 ans que l'on sait qu'un jour les contraintes physiques liées à la longueur d'onde de la lumière limiteront un jour la définition des procédés de gravure. A qui donc passer le relais ? Pour l'heure, une partie du problème peut être résolue par l'utilisation des nanotechnologies, par l'esclavagiste des salmonelles et autres bactéries associées à des micro-tubes de carbone en quelque sorte. Un espoir que semble partager l'administration Bush qui vient d'augmenter notablement les budgets de recherche associés à ce secteur. Le budget attribué à la National Science Foundation est gonflé de +1,3%, soit 56 millions de dollars de plus sur une enveloppe totale de 4,47 milliards de dollars. Ce pactole sera notamment consommé par les branches « recherche et ingénierie nanométrique » dont la dotation passe de 150 à 174 millions de dollars. Remarquons au passage que l'aide au développement dans le secteur des NTIC qui se voit offert près de 273 millions de dollars.
Réseaux&Télécom :
http://www.reseaux-telecoms.net/daily/2001/0413/electronique.htm
